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近日,德國光學(xué)組件和傳感器系統(tǒng)供應(yīng)商Jenoptik斥資千萬歐元,投資了一種新的電子束(E-Beam)光刻系統(tǒng)。據(jù)悉,新的電子束系統(tǒng)將由總部位于德國業(yè)納的電子束技術(shù)專家Vistec Electron Beam GmbH公司研制,將于2022年中期在德國德累斯頓工廠投入使用。該系統(tǒng)是開發(fā)和生產(chǎn)下一代超精密傳感器的核心部件,這對進(jìn)一步開發(fā)DUV和在半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中建立高精度EUV晶片曝光至關(guān)重要。
Jenoptik表示,新的電子束光刻系統(tǒng)能在300mm大小的基底上實(shí)現(xiàn)精度約10納米的光刻(約為毛發(fā)直徑的1/ 2000)。Jenoptik把這項(xiàng)技術(shù)作為超精密微光學(xué)制造的主要使能器,這是其傳感器業(yè)務(wù)的功能核心。改進(jìn)后的電子束光刻系統(tǒng)通過精度和靈活性的提高,為未來半導(dǎo)體曝光技術(shù)所需的傳感器奠定了技術(shù)基礎(chǔ)。
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